способ измерения аберраций оптических систем и устройство для его осуществления

Классы МПК:G01M11/02 испытание оптических свойств 
Автор(ы):, ,
Патентообладатель(и):Акционерное общество "ЛОМО"
Приоритеты:
подача заявки:
1994-05-11
публикация патента:

1. Способ измерения аберраций оптических систем, заключающийся в тем, что путем диафрагмирования выделяют из пучков лучей, проходящих через контролируемую оптическую систему, узкие пучки, регистрируют изображение, сформированное узкими пучками лучей, измеряют смещения элементов этого изображения и преобразуют смещения элементов изображения в характеристики аберраций, отличающийся тем, что на контролируемую оптическую систему направляют излучение от протяженного неоднородного объекта, регистрируют также сформированное недиафрагмированными пучками лучей изображение, диафрагмирование пучков лучей производят с помощью экрана с отверстием, устанавливаемого в плоскость, в которой диаметр сечения каждого из пучков лучей, формирующих изображения точек объекта, не превышает ширины зоны изопланатизма, а смещения элементов изображения, сформированного узкими пучками лучей, оценивают относительно этих же элементов в изображении, сформированном недиафрагмированными пучками лучей.

2. Устройство для измерений аберраций оптических систем, содержащее диафрагмирующий экран с отверстиями, регистратор изображения, расположенный за экраном в плоскости изображения контролируемой оптической системы или вблизи нее, и систему обработки регистрируемых изображений, отличающееся тем, что оно снабжено расположенными перед экраном светоделителем, формирующим недиафрагмированное изображение, и регистратором этого изображения, диаметр d отверстий экрана и расстояние S от экрана до плоскости изображения контролируемой оптической системы удовлетворяет условиям

способ измерения аберраций оптических систем и устройство   для его осуществления, патент № 2077809

способ измерения аберраций оптических систем и устройство   для его осуществления, патент № 2077809

где способ измерения аберраций оптических систем и устройство   для его осуществления, патент № 2077809 - длина волны излучения;

F - относительное отверстие контролируемой оптической системы;

l - ширина зоны изопланатизма в изображении контролируемой оптической системы;

D - диаметр выходного зрачка контролируемой оптической системы,

а радиус r непрозрачной зоны экрана вокруг каждого отверстия удовлетворяет условию

r способ измерения аберраций оптических систем и устройство   для его осуществления, патент № 2077809 Fспособ измерения аберраций оптических систем и устройство   для его осуществления, патент № 2077809S.

Описание изобретения к патенту

Класс G01M11/02 испытание оптических свойств 

установка для измерения углового поля зрения и контроля величины шага линий миры тест-объекта -  патент 2521152 (27.06.2014)
интерферометр для контроля телескопических систем и объективов -  патент 2518844 (10.06.2014)
способ оценивания очковой линзы, способ проектирования очковой линзы и способ изготовления очковой линзы -  патент 2511711 (10.04.2014)
способ оценивания очковых линз, способ проектирования очковых линз, способ изготовления очковых линз, система изготовления очковых линз и очковая линза -  патент 2511706 (10.04.2014)
способ контроля параметров оптико-электронных систем в рабочем диапазоне температур -  патент 2507495 (20.02.2014)
мира для настройки и определения параметров оптико-электронных систем с матричными фотоприемными устройствами и способ ее использования -  патент 2507494 (20.02.2014)
способ определения места повреждения оптического волокна -  патент 2503939 (10.01.2014)
способ измерения параметров световозвращения -  патент 2497091 (27.10.2013)
способ отбора многомодового оптического волокна с одномодовым оптическим передатчиком для многомодовой волоконно-оптической линии передачи -  патент 2496236 (20.10.2013)
метод интерферометрического контроля на рабочей длине волны качества изображения и дисторсии оптических систем -  патент 2491525 (27.08.2013)
Наверх