способ получения узкополосного излучения с малой расходимостью в эксимерном лазере

Классы МПК:H01S3/22 газовые 
Автор(ы):,
Патентообладатель(и):Институт сильноточной электроники СО РАН
Приоритеты:
подача заявки:
1994-01-10
публикация патента:

Изобретение относится к области квантовой электроники и может быть использовано при разработке и создании эксимерных лазеров с малой расходимостью и узкой шириной спектральной линии. Сущность: в способе получения узкополосного излучения с малой расходимостью в эксимерном лазере, включающем возбуждение активной среды, расположенной в оптическом резонаторе, содержащем выходное полупрозрачное зеркало, фокусирующую линзу и ВРМБ-зеркало, и формирование излучения, интенсивность которого на ВРМБ-зеркале достаточна для отражения излучения, величину интенсивности излучения на ВРМБ-зеркале выбирают из определенного соотношения. 3 ил.
Рисунок 1, Рисунок 2, Рисунок 3

Формула изобретения

Способ получения узкополосного излучения с малой расходимостью в эксимерном лазере, включающий возбуждение активной среды, расположенной в оптическом резонаторе, содержащем выходное полупрозрачное зеркало, фокусирующую линзу и зеркало с вынужденным рассеянием Мандельштама-Брилюэна (ВРМБ зеркало), и формирование излучения, интенсивность которого на ВРМБ зеркале достаточна для отражения излучения, отличающийся тем, что величину интенсивности излучения на ВРМБ зеркале выбирают из соотношения

способ получения узкополосного излучения с малой   расходимостью в эксимерном лазере, патент № 2077756

где hспособ получения узкополосного излучения с малой   расходимостью в эксимерном лазере, патент № 2077756 энергия кванта излучения, Дж;

N* концентрация активных частиц в среде, см-3;

t спонтанное время жизни активных частиц, с;

l длина волны излучения, см;

d апертура активной среды, см;

l1 единичная длина в 1 см;

F фокусное расстояние линзы, см;

l длина активной среды, см;

g0 коэффициент усиления активной среды, см-1;

a коэффициент ненасыщенного поглощения активной среды, см-1.

Описание изобретения к патенту

Предлагаемое изобретение относится к области квантовой электроники и может быть использовано при разработке и создании эксимерных лазеров с малой расходимостью и узкой шириной спектральной линии.

Известен способ получения излучения в эксимерном лазере [1] заключающийся в том, что узкополосный сигнал способ получения узкополосного излучения с малой   расходимостью в эксимерном лазере, патент № 2077756, полученный в задающем генераторе (ЗГ), инжектируется в кольцевой усилитель, где он усиливается и фокусируется на ВРМБ-зеркало. Отраженный от ВРМБ-зеркала сигнал снова возвращается в усилитель и затем выводится из лазерной системы.

Недостатком способа является сложность лазерной системы (наличие ЗГ), что усложняет его реализацию.

Наиболее близким по технической сущности к заявляемому решению является способ формирования излучения, описанный в работе [2] Указанный способ заключается в том, что узкополосный импульс излучения, сформированный предварительно в ЗГ, инжектируется в резонатор лазера, образованный полупрозрачным выходным зеркалом, фокусирующей линзой и ВРМБ-зеркалом. Данное излучение усиливается в активной среде лазера, фокусируется на ВРМБ-зеркало, затем отражается от него, возвращаясь в активную среду, где снова усиливается и падает на выходное полупрозрачное зеркало резонатора. При этом часть излучения выходит из лазера, а часть возвращается назад в активную среду. На выходе лазера образуется цуг импульсов с длительностью каждого, соответствующей длительности импульса, инжектируемого от ЗГ. Расходимость такого излучения в 20 раз меньше, чем расходимость излучения, полученная в эксимерном лазере с плоскопараллельным резонатором.

Недостатком описанного способа получения излучения является сложность лазерной системы (наличие ЗГ), реализующей способ.

Задачей настоящего изобретения является упрощение способа получения узкополосного излучения с малой расходимостью в эксимерной лазере.

Решение указанной задачи достигается тем, что в способе получения узкополосного излучения с малой расходимостью в эксимерном лазере, включающем возбуждение активной среды, расположенной в оптическом резонаторе, содержащем выходное полупрозрачное зеркало, линзу и ВРМБ-зеркало, и формирование излучения, интенсивность которого на ВРМБ-зеркале достаточна для отражения излучения, согласно изобретению величину интенсивности излучения на ВРБМ-зеркале выбирают из соотношения

способ получения узкополосного излучения с малой   расходимостью в эксимерном лазере, патент № 2077756

где hспособ получения узкополосного излучения с малой   расходимостью в эксимерном лазере, патент № 2077756 энергия кванта излучения, Дж;

N* концентрация активных частиц в среде, см-3;

t спонтанное время жизни активных частиц, с;

l длина волны излучения, см;

d апертура активной среды, см;

l1 единичная длина в 1 см;

F фокусное расстояние линзы, см;

l длина активной среды, см;

go коэффициент усиления активной среды, см-1;

a коэффициент ненасыщенного поглощения активной среды, см-1.

Cущность предлагаемого изобретения заключается в следующем.

При работе лазера после начала возбуждения активной среды в ней возникают спонтанные шумы, которые постепенно усиливаются. Рассмотрим спонтанные шумы, родившиеся в маленьком объеме V активной среды в области оптической оси лазера вблизи фокусирующей линзы. Данный объем имеет вид прямого кругового конуса с высотой, равной единичной длине l1, и телесным углом W при его вершине. Излучение, распространяющееся из этого объема, направлено в сторону полупрозрачного зеркала. При этом мощность излучения (при условии пренебрежения усилением из-за его малости в рассматриваемом объеме) можно выразить как

Po= hспособ получения узкополосного излучения с малой   расходимостью в эксимерном лазере, патент № 2077756способ получения узкополосного излучения с малой   расходимостью в эксимерном лазере, патент № 2077756N*способ получения узкополосного излучения с малой   расходимостью в эксимерном лазере, патент № 2077756способ получения узкополосного излучения с малой   расходимостью в эксимерном лазере, патент № 2077756способ получения узкополосного излучения с малой   расходимостью в эксимерном лазере, патент № 2077756V/4способ получения узкополосного излучения с малой   расходимостью в эксимерном лазере, патент № 2077756способ получения узкополосного излучения с малой   расходимостью в эксимерном лазере, патент № 2077756, (2)

где hспособ получения узкополосного излучения с малой   расходимостью в эксимерном лазере, патент № 2077756 энергия кванта излучения;

N* концентрация активных частиц в среде;

t спонтанное время жизни активных частиц.

Поскольку величину телесного угла можно определить как

способ получения узкополосного излучения с малой   расходимостью в эксимерном лазере, патент № 2077756 = d2/4l2, (3)

где d диаметр активной среды;

l длина активной среды;

а объем V как

V = 1/3способ получения узкополосного излучения с малой   расходимостью в эксимерном лазере, патент № 2077756способ получения узкополосного излучения с малой   расходимостью в эксимерном лазере, патент № 2077756способ получения узкополосного излучения с малой   расходимостью в эксимерном лазере, патент № 2077756l1способ получения узкополосного излучения с малой   расходимостью в эксимерном лазере, патент № 2077756d2способ получения узкополосного излучения с малой   расходимостью в эксимерном лазере, патент № 2077756l21/16l2, (4)

где способ получения узкополосного излучения с малой   расходимостью в эксимерном лазере, патент № 2077756 площадь основания конуса.

Подставив в формулу (2) значения из формул (3) и (4), получим

Po= hспособ получения узкополосного излучения с малой   расходимостью в эксимерном лазере, патент № 2077756способ получения узкополосного излучения с малой   расходимостью в эксимерном лазере, патент № 2077756N*/способ получения узкополосного излучения с малой   расходимостью в эксимерном лазере, патент № 2077756способ получения узкополосного излучения с малой   расходимостью в эксимерном лазере, патент № 2077756d4способ получения узкополосного излучения с малой   расходимостью в эксимерном лазере, патент № 2077756l31/l4способ получения узкополосного излучения с малой   расходимостью в эксимерном лазере, патент № 20777561,3способ получения узкополосного излучения с малой   расходимостью в эксимерном лазере, патент № 207775610-3, (5)

После отражения лазерного излучения от полупрозрачного зеркала и второго прохода излучения через активную среду в области фокусирующей линзы мощность излучения определяется как

P = Poспособ получения узкополосного излучения с малой   расходимостью в эксимерном лазере, патент № 2077756expспособ получения узкополосного излучения с малой   расходимостью в эксимерном лазере, патент № 20777562l(go-способ получения узкополосного излучения с малой   расходимостью в эксимерном лазере, патент № 2077756), (6),

где go коэффициент усиления активной среды;

способ получения узкополосного излучения с малой   расходимостью в эксимерном лазере, патент № 2077756 коэффициент ненасыщенного поглощения активной среды.

Затем излучение фокусируется линзой, фокусное расстояние которой F, на ВРМБ-зеркало. Площадь сечения излучения в фокальной области S = способ получения узкополосного излучения с малой   расходимостью в эксимерном лазере, патент № 2077756D2/4, где D

диаметр этого сечения в фокальной области.

Считая, что излучение выходит из малого единичного объема, фронт распространения волны излучения будет близким к сферическому, т.е. расходимость такого излучения будет близка к дифракционной и ее величину можно оценить как способ получения узкополосного излучения с малой   расходимостью в эксимерном лазере, патент № 2077756 = 2,44способ получения узкополосного излучения с малой   расходимостью в эксимерном лазере, патент № 2077756/d..

Тогда D = способ получения узкополосного излучения с малой   расходимостью в эксимерном лазере, патент № 2077756способ получения узкополосного излучения с малой   расходимостью в эксимерном лазере, патент № 2077756F = (2,44способ получения узкополосного излучения с малой   расходимостью в эксимерном лазере, патент № 2077756способ получения узкополосного излучения с малой   расходимостью в эксимерном лазере, патент № 2077756/d)способ получения узкополосного излучения с малой   расходимостью в эксимерном лазере, патент № 2077756F, a площадь сечения излучения в фокальной области S = способ получения узкополосного излучения с малой   расходимостью в эксимерном лазере, патент № 2077756способ получения узкополосного излучения с малой   расходимостью в эксимерном лазере, патент № 2077756F2способ получения узкополосного излучения с малой   расходимостью в эксимерном лазере, патент № 2077756(2,44)2способ получения узкополосного излучения с малой   расходимостью в эксимерном лазере, патент № 20777562/4d2. (7).

Интенсивность в фокальной области излучения на ВРМБ-зеркале, используя математические формулы (5),(6), (7), определим из выражения способ получения узкополосного излучения с малой   расходимостью в эксимерном лазере, патент № 2077756.

Известно, что коэффициент отражения от ВРМБ-зеркала увеличивается с уменьшением спектральной ширины падающего излучения [3]

При реализации заявляемого способа нами было обнаружено, что спектр излучения молекулы ХеСl на вершине спектрального контура имеет узкие "выбросы" способ получения узкополосного излучения с малой   расходимостью в эксимерном лазере, патент № 2077756 аналогично наблюдаемым в работе [4] при более низких давлениях, которые авторы объясняют резонансом вращательно-колебательных полос электронного перехода В-Х. В условиях пороговой интенсивности на ВРМБ-зеркале происходит отражение только на этих узких "выбросах". Таким образом, отраженный сигнал состоит из одной или нескольких (в зависимости от условий эксперимента) узких линий с шириной способ получения узкополосного излучения с малой   расходимостью в эксимерном лазере, патент № 20777560,05 0,07 способ получения узкополосного излучения с малой   расходимостью в эксимерном лазере, патент № 2077756.

В результате предлагаемый способ позволяет формировать из спонтанных шумов узкополосное и высоконаправленное излучение без каких-либо дополнительных пространственных и спектральных селекторов.

На фиг. 1 представлена принципиальная схема эксимерного лазера, реализующего заявляемый способ; на фиг.2 показана осциллограмма импульса выходного излучения; на фиг.3 приведена полученная экспериментально интерферограмма излучения для одного импульса пучка А.

Лазер содержит активный объем 1, расположенный в оптическом резонаторе, содержащем выходное полупрозрачное зеркало 2, фокусирующую линзу 3 и ВРМБ-зеркало 4.

После возбуждения активной среды 1 лазера в ней возникают спонтанные шумы, которые постепенно усиливаются. Максимальная интенсивность излучения на ВРМБ-зеркале будет обусловлена излучением, которое стартует из спонтанных шумов в области оптической оси лазера вблизи фокусирующей линзы 3, усиливается на первом проходе через активную среду 1, отражается от зеркала 2, затем усиливается на втором проходе через активную среду 1 и фокусируется линзой 3.

Интенсивность излучения на ВРБМ-зеркале при этом подобрана таким образом (вблизи пороговых значений отражения), что отражение наблюдается только на узкой линии (на "выбросе" спектрального контура). Отраженное излучение возвращается в активную среду 1, где усиливается, часть его выходит через полупрозрачное зеркало 2, а часть возвращается в активную среду 1, сжимаясь к приосевой области, фокусируется на ВРМБ-зеркало, после чего отражается от него и повторяет снова уже описанный выше порядок распространения. В результате на выходе лазера формируются два потока излучения: один сходящийся А, другой расходящийся В. Оба потока излучений имеют высокую направленность и узкую спектральную линию.

Пример конкретного выполнения. Заявляемый способ получения узкополосного излучения с малой расходимостью был реализован в ХеСl-лазере. Длительность импульса составляла способ получения узкополосного излучения с малой   расходимостью в эксимерном лазере, патент № 2077756100 нс, энергия в импульсе была способ получения узкополосного излучения с малой   расходимостью в эксимерном лазере, патент № 207775650 мДж. Длина активной среды 1 была равна 70 см, диаметр пучка излучения 1 см. Параметр (go-способ получения узкополосного излучения с малой   расходимостью в эксимерном лазере, патент № 2077756) = 0,12 см-1, концентрация активных частиц N*=2способ получения узкополосного излучения с малой   расходимостью в эксимерном лазере, патент № 20777561015 см-3, энергия кванта излучения 4 эВ, длина волны излучения способ получения узкополосного излучения с малой   расходимостью в эксимерном лазере, патент № 2077756=0,3 мкм. В качестве ВРМБ-зеркала был использован гептан. Фокусное расстояние F линзы 3 было равно 10 см. Величина интенсивности излучения в фокусе линзы 3 на ВРМБ-зеркале 4, определенная экспериментально, составила 2,7способ получения узкополосного излучения с малой   расходимостью в эксимерном лазере, патент № 2077756108 Вт/см2. Эта же величина интенсивности излучения, рассчитанная по формуле (1), получилась равной 2,2способ получения узкополосного излучения с малой   расходимостью в эксимерном лазере, патент № 2077756108 Вт/см2.

На выходе лазера наблюдался импульс излучения, представленный на фиг.2, с энергией 10 мДж. Это излучение состояло из двух пучков А и В. Каждый пучок во времени состоял из отдельных импульсов. Расстояние между импульсами для пучка А и пучка В было способ получения узкополосного излучения с малой   расходимостью в эксимерном лазере, патент № 207775620 нс, т.е. равнялось двойному обходу резонатора. Расходимость каждого пучка была такова, что 30% энергии лежало в дифракционном угле, равном 7способ получения узкополосного излучения с малой   расходимостью в эксимерном лазере, патент № 207775610-5 рад. Каждый импульс имел ширину спектральной линии 0,3 см-1, что можно наблюдать на приведенной на фиг.3, полученной экспериментально интероферограмме излучения для одного импульса пучка А (база воздушного эталона Фабри-Перо Т=3 мм). Причем частота каждого последующего импульса в каждом пучке была сдвинута на величину 0,24 см-1, что соответствует частотному сдвигу ВРМБ.

Из изложенного следует, что предлагаемый способ получения излучения в эксимерном лазере позволяет формировать узкополосное излучение (способ получения узкополосного излучения с малой   расходимостью в эксимерном лазере, патент № 2077756способ получения узкополосного излучения с малой   расходимостью в эксимерном лазере, патент № 2077756 ~ 0,3 см-1) с высокой направленностью без дополнительных пространственных и спектральных селекторов, что упрощает его реализацию.

Класс H01S3/22 газовые 

электроразрядный многоканальный лазер с диффузионным охлаждением газовой смеси -  патент 2410810 (27.01.2011)
химический кислородно-йодный лазер с буферным газом -  патент 2390892 (27.05.2010)
эксимерный лазер -  патент 2357339 (27.05.2009)
активная среда для электроразрядного со-лазера или усилителя и способ ее накачки -  патент 2354019 (27.04.2009)
способ и устройство квазинепрерывного фотоионизационного возбуждения плотных лазерных сред -  патент 2349999 (20.03.2009)
эксимерный лазер с субпикосекундным импульсом излучения -  патент 2349998 (20.03.2009)
газовый лазер -  патент 2330364 (27.07.2008)
устройство возбуждения плазмы газового разряда -  патент 2330363 (27.07.2008)
способ поддержания и регулирования концентрации галогеноводорода в газоразрядной трубке лазера и газоразрядная трубка лазера на парах галогенидов металлов -  патент 2295811 (20.03.2007)
импульсно-периодический газовый лазер и лазерная хирургическая установка -  патент 2286628 (27.10.2006)
Наверх