способ пайки полупроводникового кристалла

Классы МПК:H01L21/00 Способы и устройства, специально предназначенные для изготовления или обработки полупроводниковых приборов или приборов на твердом теле или их частей
Автор(ы):, , , ,
Патентообладатель(и):Производственное объединение "Фотон" (UZ)
Приоритеты:
подача заявки:
1990-08-06
публикация патента:

Сущность изобретения: кристалл, покрытый сплавом состава SnxPb1-x, где 0,02 способ пайки полупроводникового кристалла, патент № 2042232 x способ пайки полупроводникового кристалла, патент № 2042232 0,2, перед пайкой отжигают в атмосфере H2 при Tотмспособ пайки полупроводникового кристалла, патент № 2042232Tликв(x)+(60-70способ пайки полупроводникового кристалла, патент № 2042232C), где Tликв(x) температура ликвидуса припоя соответствующего состава, в течение t способ пайки полупроводникового кристалла, патент № 2042232 0,5 ч. 3 ил.
Рисунок 1, Рисунок 2, Рисунок 3

Формула изобретения

СПОСОБ ПАЙКИ ПОЛУПРОВОДНИКОВОГО КРИСТАЛЛА, включающий покрытие слоя никеля на кристалле свинцовосодержащим припоем, травление в смеси кислот HNO3 и HF, пайку в восстановительной атмосфере, отличающийся тем, что, с целью повышения качества пайки, в качестве припоя используют сплав состава Snx Pb1-x, где 0,02 способ пайки полупроводникового кристалла, патент № 2042232 x способ пайки полупроводникового кристалла, патент № 2042232 0,2, а после травления кристалл отжигают в атмосфере водорода при температуре Tотж способ пайки полупроводникового кристалла, патент № 2042232 Tликв(x) + (60oC70o), где Tликв (x) температура ликвидуса припоя соответствующего состава, в течение не менее 30 мин.

Описание изобретения к патенту

Изобретение относится к технологии изготовления полупроводниковых приборов.

Целью изобретения является повышение качества пайки.

Согласно изобретению способ пайки полупроводникового кристалла включает покрытие слоя никеля на кристалле свинцовосодержащим припоем, травление в смеси кислот HNO3 и HF, пайку в восстановительной атмосфере, при этом в качестве припоя используют сплав состава (0,02 способ пайки полупроводникового кристалла, патент № 2042232 х способ пайки полупроводникового кристалла, патент № 2042232 0,2) SnxPb1-x. После травления кристаллы отжигают в атмосфере водорода при температуре Т, выбранной из выражения: Тотж. способ пайки полупроводникового кристалла, патент № 2042232 Тликв.(х) + (60-70оС), где Тликв.(х) температура ликвидуса припоя соответствующего состава, в течение не менее 30 мин.

На фиг.1,2 и 3 представлены зависимости свойств припоя от условий пайки.

П р и м е р. Опыты проводились на кристаллах серийного прибора КД213. Этот прибор, рассчитанный на ток 10 А и рассеиваемую мощность 10 Вт, имеет температурное сопротивление Rт переход-корпус 1-1,1 град./Вт. Кристалл этого прибора представляет собой кремниевую p+-p-n+ структуру диаметром 8 мм, покрытую с обеих сторон слоями гальванического никеля 2 мкм и золота 2-3 мкм. Этот кристалл после механического снятия круговой фаски травится в смеси кислот (1: 1), высушивается при Т 200 способ пайки полупроводникового кристалла, патент № 2042232 5оC в течение 1 ч и защищается по торцу кремнийорганическим лаком КО-97. Для придания кристаллу свойств высокочастотности их облучают электронами. Пайка кристалла к выводам осуществляется припоем НОС-61 при Т 250-270оС. Вместо гальванического золочения кремниевых пластин, покрытых гальваническим никелем, использовалось горячее их лужение в ванне сплавов состава SnxPb1-x 0,02 способ пайки полупроводникового кристалла, патент № 2042232 x способ пайки полупроводникового кристалла, патент № 2042232 0,2. Толщина лужения по шлифам была способ пайки полупроводникового кристалла, патент № 2042232 10 мкм. Выбор припоя указанного состава диктовался требованием кислотостойкости при травлении кристалла с целью предохранения омических контактов от стравливания.

Эксперименты показали, что травление сплавов SnxPb1-x 0,02 способ пайки полупроводникового кристалла, патент № 2042232 x способ пайки полупроводникового кристалла, патент № 2042232 0,2 в смеси плавиковой и азотной кислот приводит к образованию на поверхности (сплавов) химически стойких соединений от темно-серого до коричневого цветов. Эти соединения при пайке не смачиваются мягкими припоями и препятствуют соединению паяемых деталей. Попытка использования как органических, так и неорганических флюсов соляная, плавиковая, ортофосфорная кислоты, хлористый цинк, аммоний, хлорное олово, галогениды и канифоль, не дали положительного результата при пайке: происходил либо развал конструкции, либо тепловое сопротивление было велико, что свидетельствовало о локальном сплавлении паяемых деталей.

Возникшее техническое противоречие кислотостойкость и отсутствие пайки при замене Au на сплав SnxPb1-x решалось путем предварительного отжига кристаллов в атмосфере Н2 при повышенных температурах.

Кристаллы отжигались в специальной кассете, фиксирующей их по периметру и оставляющей свободными контакты. Отжиг осуществлялся при Т 300 420оС ( способ пайки полупроводникового кристалла, патент № 2042232 5) в интервале от 10 мин до 1 ч. Оценка поверхности контактов проводилась визуально. Оптимальный режим отжига (Топтим) устанавливался по данным визуального контроля и представлял собой температуру, начиная с которой 90% поверхности контактов приобретало металлический цвет после отжига. Эти результаты сопоставлялись с данными по замеру Rт арматур после пайки.

На фиг. 1 представлены результаты замера Rт, усредненные данные по 10 приборам, от температуры предварительного отжига кристаллов (t 1 ч), покрытых сплавом Sn0,2Pb0,8 (Sn20%, Pb80%). Измерение Rтосуществлялось по стандартной методике, предусматривающей рассеяние мощности на переходе и последующий замер температуры перехода по изменению прямого падения напряжения. Из фиг. 1 следует, что, начиная с температуры способ пайки полупроводникового кристалла, патент № 2042232 360 Сспособ пайки полупроводникового кристалла, патент № 2042232 значение R способ пайки полупроводникового кристалла, патент № 2042232,1 град/Вт, что идентично для кристаллов с покрытием.

На фиг. 2 показана зависимость способ пайки полупроводникового кристалла, патент № 2042232 от времени отжига (Т 400 способ пайки полупроводникового кристалла, патент № 2042232 5оС) для сплавов х 0,1; 0,1; 0,05 и результаты отжига для сплава х 0,1 при Т 380 способ пайки полупроводникового кристалла, патент № 2042232 5оC. Из фиг.2 следует, что значение Rт cтабилизируется, начиная с t способ пайки полупроводникового кристалла, патент № 2042232 0,5 ч.

На фиг.3 представлена зависимость температуры Топтим. от состава сплава Х. Эта температура возрастает по мере роста содержания свинца в сплаве и может быть выражена формулой Tоптим способ пайки полупроводникового кристалла, патент № 2042232 Тликв. (х) + (60--70оС), где Тликв. (х) температура ликвидуса сплава соответствующего состава, Тликв. (х), изображенная на фиг.3.

Таким образом, при Т способ пайки полупроводникового кристалла, патент № 2042232 Топт. и tспособ пайки полупроводникового кристалла, патент № 2042232 способ пайки полупроводникового кристалла, патент № 2042232 ч осуществляется отжиг, восстанавливающий металлический характер поверхности контактов. Совместить операции отжига и пайки арматур не удается, поскольку дефекты облучения в кристалле стабильны при Т < 360о и облучение кристаллов приходится производить после восстанавливающего отжига перед пайкой.

Класс H01L21/00 Способы и устройства, специально предназначенные для изготовления или обработки полупроводниковых приборов или приборов на твердом теле или их частей

способ определения мольной доли li2o в монокристаллах linbo3 -  патент 2529668 (27.09.2014)
устройство для плазмохимического травления -  патент 2529633 (27.09.2014)
способ формирования наноразмерных структур -  патент 2529458 (27.09.2014)
способ изготовления диэлектрического слоя мдп структур, обладающих эффектом переключения проводимости -  патент 2529442 (27.09.2014)
нанотехнологический комплекс на основе ионных и зондовых технологий -  патент 2528746 (20.09.2014)
способ получения слоистого наноматериала -  патент 2528581 (20.09.2014)
способ изготовления изолирующих областей полупроводникового прибора -  патент 2528574 (20.09.2014)
способ формирования высоковольтного карбидокремниевого диода на основе ионно-легированных p-n-структур -  патент 2528554 (20.09.2014)
способ преобразования матрично расположенных шариковых выводов микросхем из бессвинцового припоя в оловянно-свинцовые околоэвтектического состава и припойная паста для его реализации -  патент 2528553 (20.09.2014)
способ получения слоя диоксида кремния -  патент 2528278 (10.09.2014)
Наверх