Элементы конструкции электронно-лучевых трубок, отнесенных к группе  ,31/00: .ловушки для удаления или отклонения нежелательных частиц, например отрицательных ионов, краевых электронов, устройства для разделения по скорости или массе – H01J 29/84

МПКРаздел HH01H01JH01J 29/00H01J 29/84
Раздел H ЭЛЕКТРИЧЕСТВО
H01 Основные элементы электрического оборудования
H01J Электрические газоразрядные и вакуумные электронные приборы и газоразрядные осветительные лампы
H01J 29/00 Элементы конструкции электронно-лучевых трубок, отнесенных к группе  31/00
H01J 29/84 .ловушки для удаления или отклонения нежелательных частиц, например отрицательных ионов, краевых электронов; устройства для разделения по скорости или массе

Патенты в данной категории

УСТРОЙСТВО ДЛЯ ОЧИСТКИ ПЛАЗМЫ ДУГОВОГО ИСПАРИТЕЛЯ ОТ МИКРОЧАСТИЦ

Изобретение относится к плазменным технологиям нанесения пленочных покрытий и предназначено для очистки плазменного потока дуговых испарителей от микрокапельной фракции. Устройство содержит корпус 1, установленную в нем жалюзийную систему вложенных коаксиальных электродов 4, перекрывающих апертуру вакуумно-дугового испарителя, электрически соединенных между собой последовательно и встречно и подключенных к источнику тока и к положительному выводу источника напряжения, вторым выводом подключенного к аноду вакуумно-дугового испарителя, и выполненных в виде изогнутых и соединенных по своей длине полых трубок, подключенных к системе подачи охлаждающего агента. После жалюзийной системы электродов 4 установлена, по меньшей мере, одна электромагнитная катушка. Электроды жалюзийной системы 4 выполнены в форме поверхности второго порядка. Корпус 1 снабжен рубашкой охлаждения 2. Перед жалюзийной системой электродов 4 соосно с ней расположен рассекающий элемент 5, установленный на охлаждаемом полом держателе 6, закрепленном на корпусе 1 и перекрывающем зазоры, образованные изгибами трубок, при этом рассекающий элемент 5 соединен с рубашкой охлаждения 2 корпуса 1 и выполнен в виде полусферы или усеченного конуса и содержит источник магнитного поля. Технический результат: повышение производительности, уменьшение эксплуатационных расходов и уменьшение габаритов установки. 7 з.п. ф-лы, 1 табл., 4 ил.

2364003
патент выдан:
опубликован: 10.08.2009
УСТРОЙСТВО ДЛЯ ОЧИСТКИ ПЛАЗМЫ ДУГОВОГО ИСПАРИТЕЛЯ ОТ МИКРОЧАСТИЦ (ЕГО ВАРИАНТЫ)

Устройство для очистки плазмы дугового испарителя от микрочастиц представляет собой жалюзийную систему электродов, располагаемую на пути плазменного потока и подключенную к аноду дугового испарителя. Электроды соединены между собой последовательно и встречно и подключены к источнику тока. Во втором варианте система электродов представляет собой неаксиальный набор электродов конической формы. 2 с.п.ф-лы, 2 ил.
2107968
патент выдан:
опубликован: 27.03.1998
УСТРОЙСТВО ДЛЯ ОЧИСТКИ ПЛАЗМЫ ДУГОВОГО ИСПАРИТЕЛЯ ОТ МИКРОЧАСТИЦ (ЕГО ВАРИАНТЫ)

Сущность изобретения: устройство представляет собой жалюзную систему электродов, располагаемую на пути плазменного потока и подключенную к положительному выводу источника напряжения, вторым выводом подключенного к аноду дугового испарителя. Жалюзийные электроды выполнены в виде постоянных магнитов с проводящим покрытием, торцы которых с обеих сторон системы закрыты защитными экранами, электрически не связанными с жалюзями. По второму варианту снаружи жалюзной системы расположены постоянные магниты, форма которых подобна форме жалюзных электродов. В обоих вариантах жалюзная система может состоять как из плоскопараллельных, так и коаксиальных конических электродов. Коаксиальная система дает аксиально-симметричный очищенный расходящийся либо сфокусированный плазменный поток. 2 с. и 1 з.п. ф-лы, 5 ил.
2097868
патент выдан:
опубликован: 27.11.1997
Наверх