способ выявления следов пальцев рук

Формула изобретения

Способ выявления следов пальцев рук, включающий обеспечение рабочего давления вакуумной системы и напыление пленки на следовоспринимающую поверхность, отличающийся тем, что напыляют однослойную пленку толщиной 0,1-0,2 мкм из материала с температурой испарения 1100 - 1300^oC и не загрязняющего вакуумную систему, при этом напыление осуществляют со скоростью 10 - 10 /с, а рабочее давление выбирают в пределах 10^-2 - 510^-3 Па.

Описание изобретения к патенту

Изобретение относится к криминалистике, в частности к выявлению следов пальцев рук с применением термовакуумного напыления и может быть использовано для проведения дактилоскопических исследований.

Известен способ выявления следов пальцев рук после воздействия высоких температур на предметах их жаропрочного материала /Туманов А.А. Выявление следов пальцев рук на предметах после воздействия высоких температур. В сб. науч.тр. За круглым столом. Возможности применения современных научно-технических методов и средств в криминалистике. М.: МВД СССР ВНИИ, 1979, с. 21-22. /. Способ, заключается в том, что исследуемый объект помещают в рабочий объем, где поддерживают вакуум порядка 1.3-6.5 Па. Далее его нагревают до температуры 300^oC и в рабочий объем вводят металлоорганическое соединение, которое при данной температуре разлагается и в результате на исследуемой поверхности осаждается пленка хрома. В местах нахождения потожирового вещества (хлорида натрия и калия) осаждения хрома не происходит.

Недостатками данного способа является необходимость нагрева объекта до температуры 300^oC и возможность исследования только жаропрочных объектов.

Известен способ выявления следов пальцев рук, основанный на последовательном нанесении в вакууме двухслойной проявляющей пленки /Ю.Ю. Ярослав. Восстановление первоначального вида документа с отпечатками пальцев. В сб. науч. тр. Криминалистика и судебная экспертиза. Киев: Высшая школа, 1977, вып. 14, с. 104-108/. Способ, заключается в том, что исследуемый объект помещают в рабочий объем, где поддерживают вакуум порядка 10^-2 Па. Затем на его поверхность последовательно напыляют слой серебра (для лучшей адгезии) и кадмия. Проявляющая кадмиевая пленка чувствительна к потожировому веществу и поэтому она хорошо "ложится" только на межпапилярные промежутки. Получающая пленка обладает высокой разрешающей способностью.

Недостатком способа является необходимость использования дорогостоящих материалов, напыление адгезионной пленки строго определенной толщины (300 ) и возможность загрязнения вакуумной системы соединениями кадмия.

Наиболее близким по технической сущности является способ выявления латентных следов пальцев рук /см. а.с. СССР 974999, МКИ³ A 61 B 5/10, опубл. в БИ 1982, N 43/. Способ, заключается в том, что исследуемый объект помещают в рабочий объем, который откачивают до давления 10^-2 Па. Далее, со скоростью 3 /c производят последовательное напыление адгезионного слоя золота до толщины 300 и проявляющего слоя цинка до толщины 1500 . При этом поддерживают скорость напыления порядка 3 /с. Получающиеся при этом пленки обладают высокой разрешающей способностью.

Недостатками способа являются необходимость использования дорогостоящих материалов, поддержание строго определенной скорости напыления 3 /с 0,5 /с и опасность загрязнения вакуумной системы активными соединениями цинка.

Изобретение направлено на решение задачи - создания эффективного экспрессионного способа выявления следов пальцев рук при упрощении процесса выявления.

Задача решается напылением на следовоспринимающую поверхность однослойной пленки толщиной 0.1-0.2 мкм из материала с температурой испарения 1100 - 1300^oC и не загрязняющего вакуумную систему, при этом напыление осуществляют со скоростью от 10 до 100 /с, а рабочее давление выбирают в пределах 10^-2 - 5 10^-3 Па.

Признаки, сходные с признаками, отличающими заявляемое изобретение от прототипа, в известной авторам научно-технической и патентной литературе не описаны, что позволяет сделать вывод о наличии новизны.

Авторам не известен способ выявления следов пальцев рук, позволяющий эффективно, быстро и просто выявлять следы за счет использования для напыления однослойной пленки толщиной 0.1-0.2 мкм из материала с температурой испарения в вакууме 1100 - 1300^oC и не загрязняющего вакуумную систему. Сказанное позволяет сделать вывод о наличии изобретательского уровня.

Проведенные многочисленные эксперименты показали, что при скорости напыления менее 10 /с происходит радиационный разогрев объекта, что нежелательно, так как приводит к эффективному "старению" выявляемого следа, при скорости более 100 /с оператору трудно управлять процессом выявления следа. Также было обнаружено, что при толщинах пленки менее 0.1 мкм контрастность выявляемого следа мала, а при толщине более 0.2 мкм наблюдается запыление межпапилярных промежутков, что приводит к уменьшению контрастности следа.

Выбор материалов с температурой испарения 1100-1300^oC обусловлен хорошими адгезионными и проявляющими свойствами одновременно.

Способ поясняется иллюстративным материалом, где на фиг. 1, 2 и 3 представлены фотографии следов пальцев рук, выявленные предложенным способом на барабане револьвера, патроне и алюминиевой фольге соответственно.

Способ осуществляется следующим образом. Исследуемый объект размещают в рабочем объеме, который затем откачивают до давления 10^-2-5 10^-3 Па. Затем плавно нагревают испаритель (в течение 15-20 с) с навеской напыляемого материала до температуры испарения. Далее, подбором температуры обеспечивают скорость напыления от 10 до 100 /с и напыляют выпрямляющую пленку толщиной 0.1-0.2 мкм на поверхность исследуемого объекта. Для напыления используют материал, исходя из следующих условий: он должен обладать хорошими адгезионными и проявляющими свойствами одновременно и не загрязнять вакуумную систему (например, алюминий, медь и т.п.), Получающаяся пленка образует зеркальную поверхность в местах, где отсутствуют потожировые отложения, например в межпапилярных промежутках. В местах, где имеются потожировые отложения пленка плохо "ложится" из-за слабой адгезии. Высокое разрешение достигается при скорости напыления, лежащей в пределах 10-100 /с.

Исследуемый объект помещают в рабочий объем камеры вакуумного универсального поста ВУП-4 или ВУП-5 на расстоянии 15-20 см от испарителя. В испаритель загружают навеску напыляемого вещества, в качестве которого использовали алюминий и медь, удовлетворяющие критериям, описанным выше. Далее рабочий объем откачивают до давления 10^-2 - 510^-3 Па. При достижении указанного давления испаритель разогревают до температуры 1230 - 1260^oC для алюминия и до 1270 - 1290^oC для меди. При такой температуре испарителя на поверхности исследуемого объекта пленка осаждается со скоростью порядка 10 - 50 /с, которая является оптимальной для выявления следов давностью более 7 - 10 суток. При достижении наилучшей контрастности выявляемых следов процесс напыления прекращают. Обычно это наблюдается при толщине пленки 0,1 - 0,2 мкм. В случае, когда давность следов менее 5 - 7 суток для предотвращения их расплывания от радиационного разогрева от испарителя, скорость напыления увеличивают до 50 - 100 /с. Контроль за толщиной пленки осуществляют с помощью резисторного датчика, а за качеством проявляющихся следов - визуально через технологическое окно. Для нанесения на всей поверхности протяженного объекта пленки равной толщины, исследуемый предмет перемещают относительно испарителя. Способ поясняется иллюстративным материалом, где на фиг. 1, 2 и 3 представлены фотографии следов пальцев рук 20-ти, 10-ти и 5-ти дневной давности, выявленные на барабане револьвера и патроне напылением алюминия, а на алюминиевой пластинке - напылением меди соответственно.

Использование для выявления следов пальцев рук материалов типа алюминий, медь и т.п. позволяет

ускорить процесс выявления следов пальцев рук;

упростить процесс выявления за счет напыления однослойной пленки и расширения диапазона скоростей напыления;

существенно удешевить процесс выявления следов пальцев рук, так как в отличие от аналога и прототипа дорогостоящие материалы не используются;

предохранить от загрязнения вакуумную систему за счет использования неагрессивных для вакуумной системы материалов (например, алюминия, меди и т. д.);

обеспечить высокую разрешающую способность, слабо зависящую от толщины пленки (0,1 - 0,2 мкм) и скорости напыления.