сцинтилляционный материал

Классы МПК:C30B29/32 титанаты; германаты; молибдаты; вольфраматы
C30B15/02 добавлением к расплаву кристаллизующегося материала или реагентов, образующих его непосредственно в процессе
Автор(ы):, , , ,
Патентообладатель(и):Всероссийский научно-исследовательский институт синтеза минерального сырья
Приоритеты:
подача заявки:
1993-05-13
публикация патента:

Изобретение относится к технике для регистрации и спектрометрии ионизирующих излучений, в частности к сцинтиляционным материалам. Цель изобретения - создание сцинтилляционного материала на основе двойного вольфрамата натрия - висмута, обладающего повышенным световым выходом сцинтилляций. Кристалл N aBi(WO4)2 содержит дополнительно примесь щелочного металла из группы Li, K, Pb, Cs в количестве 0,005 - 0,3 мас.%. Введение примесей щелочных металлов в сцинтилляционный материал приводит к повышению светового выхода сцинтилляций, что способствует расширению области его применения. 1 табл.
Рисунок 1

Формула изобретения

СЦИНТИЛЛЯЦИОННЫЙ МАТЕРИАЛ на основе двойного вольфрамата натрия-висмута NaBi (WO4)2, отличающийся тем, что материал дополнительно содержит примесь щелочного металла из группы LiK, Rb, Cs в количестве 0,005 0,3 мас.

Описание изобретения к патенту

Изобретение относится к технике регистрации и спектрометрии ионизирующих излучений, в частности к сцинтилляционным материалам.

Известны сцинтилляционные кристаллы вольфраматов, в частности вольфрамата кадмия CdWO4(CWO) [1] Достоинствами CWO, как сцинтиллятора, являются большая плотность (7г, 9 г/см3), высокий эффективный атомный номер (Z 62), малая радиационная длина (1,10 см), значительный световой выход сцинтилляций (до 40% относительно NaT(Tl), достаточно большая длина волны максимума спектра излучения (сцинтилляционный материал, патент № 2059026= 480-540 нм), позволяющая использовать CWO как с фотоэлектронными умножителями, так и с фотодиодами.

Недостатком CWO является значительное время высвечивания сцинтилляционного импульса, составляющее при комнатной температуре порядка 12000 нс (в импульсе присутствуют две компоненты с постоянными времени 5000 и 20000 нс). Кроме того, кристаллы CWO обладают невысокой радиационной стойкостью. Так, при облучении квантами средних энергий (Е 0,662 МэВ) снижение световыхода в зависимости от поглощенной дозы составляют 0,3% кГр. Эти факторы ограничивают применение сцинтиллятора CWO в устройствах детектирования ионизирующих излучений высоких энергий и трактах регистрации, требующих высокого временного разрешения.

Наиболее близким к изобретению является кристалл двойного вольфрамата натрия-висмута NaBi(WO4)2, используемый в радиаторах детекторов Черенкова [2]

Достоинства этого материала, как среды, преобразующей энергию ионизирующего излучения в кванты света, определяются его высокой плотностью (7,57 г/см3), большим эффективным атомным номером (Z71), малой радиационной длиной (1,01 см), высокой оптической прозрачностью в видимом и ультрафиолетовом (за исключением области 300-410 нм) диапазонах, быстродействием (порядка 3 нс) и значительной радиационной стойкостью снижение оптического пропускания происходит при дозах сцинтилляционный материал, патент № 2059026-облучения свыше 80 кГр и не превышает 0,15% кГр. Материал в качестве детекторов Черенкова находит применение для регистрации частиц высоких энергий. Как сцинтиллятор же кристалл NaBi(WO4)2 непригоден для детектирования сцинтилляционный материал, патент № 2059026-квантов, что определяется незначительным выходом света сцинтилляций, не превышающим при Есцинтилляционный материал, патент № 2059026= 0,662 МэВ 0,2% относительно сцинтиллятора NaT(Tl).

Цель изобретения создание сцинтилляционного материала на основе двойного вольфрамата натрия-висмута, обладающего повышенным световым выходом сцинтилляций.

Цель достигается тем, что кристалл NaBi(WO4)2 содержит дополнительно примесь щелочного металла из группы Li, K, Pb, Cs в количестве 0,005-0,3 мас.

Выбор указанных щелочных металлов в качестве легирующей примеси обусловлен следующим. Известно, что сцинтиллирующие вольфраматы принадлежат к классу так называемых самоактивированных сцинтилляторов. Их радиолюминесценция обусловлена излучательным девозбуждением анионного комплекса WO42- и практически индиферентна к присутствующим катионам. При этом свечение вольфраматов создается не всеми анионами WO42, а только той их частью, которая находится в нерегулярных узлах решетки, то есть в искаженных участках анионной подрешетки. Двойной вольфрамат натрия-висмута кристаллизуется в структуре шеелита, причем катионы Na1+и Bi3+ имеют координационные числа (к.ч.) 8, распределены по соответствующим структурным позициям статистически и обладают при данном к.ч. практически равными физическими ионными радиусами rNa1+= 1,32 сцинтилляционный материал, патент № 2059026 и rBi3+ 1,31 сцинтилляционный материал, патент № 2059026. Эти факторы обуславливают незначительную степень локальных искажений WO42- комплексов (WO4 тетраэдр слабо сжат по оси С и имеет два ребра по 2,97 сцинтилляционный материал, патент № 2059026 и четыре ребра по 2,87 сцинтилляционный материал, патент № 2059026, то есть различие не превышает 3,4%). Создать локальные искажения WO42 комплексов, достаточных для повышения светового выхода сцинтилляций NaBi(WO4)2, позволяет замещение части катионов Na1+ или Bi3+ примесью, имеющей отличный от замещаемого катиона ионный радиус. При этом необходимо, чтобы примесь обладала тем же типом химической связи и способностью изовалентно замещать соответствующие катионы с сохранением к. ч. 8. Этим требованиям удовлетворяет замещение в NaBi(WO4)2 ионов натрия на одновалентные ионы щелочных металлов Li, K, Pb, Cs, для которых к. ч. 8 разрешены.

Монокристаллы сцинтиллятора NaBi(WO4):Me, где Ме берется из группы металлов Li, K, Pb, Cs, получают следующим образом. Исходную шихту составляют из смеси компонентов Na2CO3:B2O3:WO3 с добавкой соединения щелочного металла из указанной группы. Монокристаллы выращивают методом Чохральского в окислительной атмосфере в пластиновых тиглях при 935-980оС со скоростью вытягивания 2,0-5,0 мм/ч и скоростью вращения затравки 20-30 мин-1. По окончании процесса выращивания охлаждение кристаллов ведут со скоростью не более 50 К/ч.

Полученные монокристаллы контролируют по содержанию примеси щелочного металла, по величине светового выхода сцинтилляций, времени высвечивания импульса и радиационной стойкости. При этом используют соответственно метод атомно-абсорбционного анализа, стандартную методику измерения световыхода по пику полного поглощения сцинтилляционный материал, патент № 2059026-квантов источника

137Cs, одноэлектронный метод при возбуждении сцинтилляционный материал, патент № 2059026-частицами от источника

238Pu и измерение оптического пропускания образцов до и после сцинтилляционный материал, патент № 2059026-облучения фиксированной дозой от источника 60Со.

П р и м е р ы. Исходную шихту готовили из смеси основных компонентов Na2CO3:Bi2O3:WO3. К навескам основной шихты вводили добавки щелочных металлов в виде карбонатов Ме2СО3, где Ме Li, K, Pb, Cs. Из составов методом Чохральского были выращены кристаллы NaBi(WO4)2:Me. Кристаллы, полученные в диапазоне содержаний примеси щелочных металлов до 0,3 мас. прозрачны, имеют желтую от слабой до средней интенсивности окраску, содержат малое количество визуально наблюдаемых дефектов (тонкодисперсных включений и микротрещин), локализованных в хвостовой зоне. Диаметр кристаллов составляет 20-23 мм, длина 60-80 мм. При содержании легирующей примеси 0,35 и более мас. присутствие включений и трещиноватость кристаллов резко возрастают, что связано с выпадением фаз, химически и структурно существенно отличающихся от матрицы. Такие образцы не прозрачны по всему объему.

Для измерения сцинтилляционных характеристик из кристаллов изготавливали элементы диаметром 18 и толщиной 5 мм, торцы которых были полированы по классу Rz 0,025, а боковая поверхность матирована. Дополнительно отбирали пробы материала для контроля содержания легирующего щелочного металла. На изготовленных элементах контролировали также по оптическим спектрам пропускания радиационную стойкость материала. Спектры снимали на спектрофотометре на длине волны 480 нм до и после облучения элемента от источника сцинтилляционный материал, патент № 2059026-квантов с энергией 1,33 МэВ (60Со) дозами 12,0 Мрад. Результаты измерений содержания примеси, светового выхода сцинтилляций, времени высвечивания импульса и изменения оптического пропускания приведены в таблице.

Из таблицы следует, что положительный эффект, достигнутый при введении в указанном количестве примесей щелочных металлов в кристаллы NaBi(WO4)2, состоит в том, что полученный сцинтилляционный материал обладает световыходом сцинтилляций, составляющим при оптимальном содержании примеси 0,1 мас. в случае добавки Li 2,1, K 1,65, Pb 1,0, Cs 0,8% относительно NaT(Tl), то есть соответственно в 10,5; 8,2; 5,0; 4,0 раза выше, чем у нелегированного кристалла. При этом введение примесей щелочных металлов в диапазоне концентраций 0,005-0,3 мас. не привело к ухудшению быстродействия и радиационной стойкости кристалла относительно материала, описанного в прототипе. Эффект повышения световыхода не обеспечивается при содержаниях примеси, меньших 0,005 и больших 0,3 мас. (примеры 1,5, 12 и 16 с введением примесей с минимальным (Li) и максимальным (Cs) ионными радиусами). В первом случае это связано с малой величиной замещения в кристаллической матрице ионов натрия на ионы примеси. Во втором обусловлено непрозрачностью кристалла, препятствующей выходу света сцинтилляций. Таким образом, диапазон концентраций примеси щелочного металла из группы Li, K, Pb, Cs, обеспечивающих достижение поставленной цели, составляет 0,005-0,3 мас.

Полученный сцинтилляционный материал вследствие улучшения важной характеристики светового выхода сцинтилляций обладает большим относительно материала, описанного в прототипе, диапазоном применения. Сцинтилляционный кристалл может найти использование для регистрации спектрометрии частиц и квантов в устройствах физики высоких энергий, в частности в детекторах электромагнитных калориметров ускорителей на встречных пучках. В этом случае повышенный световыход обеспечит увеличение чувствительности регистрирующей системы, а малое время высвечивания и значительная радиационная стойкость обеспечат высокое временное разрешение и возможность работы в полях излучений большой интенсивности.

Класс C30B29/32 титанаты; германаты; молибдаты; вольфраматы

способ выращивания монокристаллов литий-висмутового молибдата -  патент 2519428 (10.06.2014)
способ выращивания монокристаллов литий-магниевого молибдата -  патент 2487968 (20.07.2013)
способ получения кристаллов вольфрамата натрия-висмута -  патент 2485218 (20.06.2013)
оптическая среда для преобразования монохроматического излучения лазера и способ ее получения -  патент 2394321 (10.07.2010)
способ получения монокристаллов молибдата цинка -  патент 2363776 (10.08.2009)
способ получения монокристалла вольфрамата -  патент 2241081 (27.11.2004)
способ получения сцинтилляционных монокристаллов вольфрамата свинца -  патент 2202011 (10.04.2003)
способ получения сцинтилляционного монокристалла вольфрамата свинца -  патент 2164562 (27.03.2001)
монокристаллы вольфрамата свинца -  патент 2145648 (20.02.2000)
способ получения сцинтилляционного монокристалла вольфрамата свинца -  патент 2132417 (27.06.1999)

Класс C30B15/02 добавлением к расплаву кристаллизующегося материала или реагентов, образующих его непосредственно в процессе

способ получения крупногабаритных монокристаллов антимонида галлия -  патент 2528995 (20.09.2014)
способ выращивания монокристаллов германия -  патент 2493297 (20.09.2013)
способ получения кристаллов вольфрамата натрия-висмута -  патент 2485218 (20.06.2013)
способ получения крупногабаритных монокристаллов антимонида индия -  патент 2482228 (20.05.2013)
способ получения монокристалла оксида цинка -  патент 2474625 (10.02.2013)
способ выращивания объемных монокристаллов александрита -  патент 2471896 (10.01.2013)
способ получения монокристалла -  патент 2418108 (10.05.2011)
способ выращивания монокристаллов с заданным распределением примесей по его длине -  патент 2402646 (27.10.2010)
способ получения совершенных кристаллов трибората цезия из многокомпонентных растворов-расплавов -  патент 2367729 (20.09.2009)
устройство для выращивания слоев кремния на углеродной подложке -  патент 2365684 (27.08.2009)
Наверх