Тиомочевины, т.е. соединения, содержащие любую из групп: или , где атом азота не входит в нитро- или нитрозогруппы: .тиомочевина – C07C 335/02

МПКРаздел CC07C07CC07C 335/00C07C 335/02
Раздел C ХИМИЯ; МЕТАЛЛУРГИЯ
C07 Органическая химия
C07C Ациклические и карбоциклические соединения
C07C 335/00 Тиомочевины, т.е. соединения, содержащие любую из групп: или , где атом азота не входит в нитро- или нитрозогруппы
C07C 335/02 .тиомочевина

Патенты в данной категории

ПЛЕНОЧНЫЙ ФОТОРЕЗИСТ ДЛЯ ТРАФАРЕТНОЙ ПЕЧАТИ И СПОСОБ ЕГО ИЗГОТОВЛЕНИЯ

Изобретение относится к области изготовления пленочного фоторезиста и сеткотрафаретных экранов на его основе, используемых в производстве печатных плат, керамических корпусов интегральных схем, изделий полиграфической промышленности. Описывается пленочный фоторезист для трафаретной печати, содержащий гибкую подложку и полимерный очувствляемый копировальный слой на основе пленкообразующей композиции, включающей полимерное связующее, содержащее поливиниловый спирт и сополимер винилацетата с 2-50 мол.% диалкилмалеината (C 2-C8) или с 2-95 мол.% этилена, или поливинилацетат, краситель из класса фталоцианиновых пигментов или трифенилметановых красителей, неионогенный смачиватель из класса полиэтиленгликолевых эфиров моно- и диалкилфенолов или бис(октаглицерин)-2-алкенсукцината, и дополнительно активатор, выбранный из группы, включающей соединения, содержащие тиокарбонильную группу, такие как тиомочевина и ряд ее производных, соль тиосемикарбазида, N,N-диэтилдитиокарбаматы натрия и аммония, тиоацетамид, соединения с меркаптогруппой, например L-цистеин, сульфитные соединения, такие как пиросульфиты калия или натрия, формальдегид-бисульфит натрия, в количестве 0,1-2,0 мас.% в сухом копировальном слое. Пленочный фоторезист получают путем полива на гибкую полимерную основу указанной водной пленкообразующей композиции с последующей сушкой политого слоя теплым воздухом. Способ позволяет увеличить фоточувствительность пленочного фоторезиста, сократить время экспонирования в 1,5-2,0 раза, повысить устойчивость сшитого копировального слоя к действию органических растворителей, а также получить на основе данного фоторезиста сеткотрафаретные экраны с защитным слоем повышенной толщины (более 100 мкм). 2 н.п. ф-лы, 2 табл.

2321037
патент выдан:
опубликован: 27.03.2008
Наверх