Обработка поверхности нитей или волокон из стекла, минералов или шлака: ...с использованием экструзионных устройств – C03C 25/18
Раздел C ХИМИЯ; МЕТАЛЛУРГИЯ
C03 Стекло; минеральная и шлаковая вата
C03C Химический состав стекла, глазурей или эмалей; обработка поверхности стекла; обработка поверхности волокон или нитей из стекла, минералов или шлака; соединение стекла со стеклом или с другими материалами
C03C 25/00 Обработка поверхности нитей или волокон из стекла, минералов или шлака
C03C 25/18 ...с использованием экструзионных устройств
Патенты в данной категории
| УСТРОЙСТВО ДЛЯ ПРОПИТКИ ВОЛОКОН Изобретение относится к технике производства сосудов высокого давления из композиционных материалов методом намотки пропитанного стекловолокна на оправку и может быть применено в намоточных станках автоматических линий. Устройство для пропитки волокон на намоточном станке с заправочными шпулями содержит камеру с дроссельным отверстием для подачи пропитывающего состава в зазор фильеры, образованной наружной поверхностью камеры в зоне дроссельного отверстия и наружной поверхностью оппозитно расположенного узла, систему трубопроводов для подачи под давлением пропитывающего состава из емкости для хранения, смонтированной на основании станка, в камеру и отвода из нее, и средство натяжения волокна. Оно снабжено датчиком регулировки подачи пропитывающего состава, установленным в камере, и расположенным внутри камеры подвижным штоком с клапаном, регулирующим проходное сечение дроссельного отверстия, выполненного в днище камеры. Оппозитно расположенный узел выполнен в виде матрицы с фигурной лункой, образующей ванну, на поверхности, обращенной в сторону днища. Средство натяжения волокна выполнено в виде системы подвижных роликов, имеющих в поперечном сечении каплеобразные профили, и расположено за фильерой по ходу движения волокна. Технический результат изобретения - повышение качества пропитки волокна при одновременном повышении производительности намоточного станка. 1 с. и 7 з. п. ф-лы, 2 ил. | 2177917 патент выдан: опубликован: 10.01.2002 |
|